Według informacji Nikkei cytowanych przez TrendForce, zamówiona przez firmę Rapidus maszyna litograficzna EUV firmy ASML ma dotrzeć do Japonii w połowie grudnia. Oznacza to pierwsze wdrożenie technologii EUV w Japonii i istotny krok dla krajowego przemysłu półprzewodników stara się ustalić siebie jako głównego gracza. Rapidus buduje w tej chwili fabrykę w Chitose na Hokkaido i planuje rozpocząć masową produkcję chipów 2 nm w 2027 roku. Firma planuje także zakup kilku urządzeń EUV, jeżeli produkcja chipów 2-nanometrowych zakończy się sukcesem i zamierza zbudować drugą produkcję specjalnie dla chipów 1,4 nm. Aby wesprzeć te operacje, ASML utworzy centrum serwisowe w Chitose City.
Dyrektor generalny NVIDIA, Jensen Huang, zasugerował możliwość outsourcingu produkcji chipów AI firmie Rapidus. Według stanu na październik, postęp budowy obiektu Rapidus, który rozpoczął się we wrześniu 2023 roku, wynosi aż 63% i pozostaje prawidłowy. Oprócz Rapidusa w fabryce Micron w Hiroszimie zainstalowana zostanie sprzęt EUV w 2025 r., co umożliwi masową produkcję w 2026 r. JASM, spółka zależna TSMC w Japonii, planuje zintegrować litografię EUV z drugą fabryką płytek w 2027 r., która będzie miała grubość 6 nm linia produkcyjna.
