SMIC testuje pierwszą chińską maszynę DUV – przełom, który może otworzyć drogę do produkcji 5 nm

Zdjęcie: SMIC testuje pierwszą chińską maszynę DUV – przełom


Chiński rynek półprzewodników może być świadkiem kolejnego przełomu. Według doniesień SMIC rozpoczęło testy pierwszej, w pełni krajowej maszyny litograficznej DUV, opracowanej przez start-up Yuliangsheng z Szanghaju. jeżeli próby zakończą się sukcesem, urządzenie może stać się fundamentem do dalszego skalowania produkcji chipów w Chinach. Dotychczas SMIC było mocno uzależnione od holenderskiej firmy ASML, która dostarczała mniej zaawansowane narzędzia DUV, w tym wczesne wersje litografii immersyjnej. To właśnie one pozwoliły chińskiej firmie na osiągnięcie produkcji w procesie 7 nm. Jednak amerykańskie restrykcje […]