Stany Zjednoczone ograniczyły zakres projektu ustawy MATCH Act, który miał zaostrzyć kontrolę eksportu technologii półprzewodnikowych do Chin. Najnowasza wersja dokumentu usuwa część najbardziej kontrowersyjnych zapisów, ale utrzymuje najważniejsze restrykcje, w tym dotyczące sprzętu litograficznego.
